抛光分为两个阶段进行。粗抛目的是去除磨光损伤层，优质石材连续磨机，这一阶段应具有大的抛光速率，粗抛形成的表层损伤是次要的考虑，不过也应当尽可能小；其次是精抛（或称终抛），石材连续磨机报价，其目的是去除粗抛产生的表层损伤，使抛光损伤减到小。抛光机抛光时，试样磨面与抛光盘应平行并均匀地轻压在抛光盘上，白麻石材连续磨机，注意防止试样飞出和因压力太大而产生新磨痕。同时还应使试样自转并沿转盘半径方向来回移动，以避免抛光织物局部磨损太快在抛光过程中要不断添加微粉悬浮液，莱州石材连续磨机，使抛光织物保持一定湿度。
抛光机抛光，研磨和抛光圆盘试样应平行并轻轻按压在抛光盘上，注意防止试样飞出去，因为压力过大而产生的新的标记。同时还应使样品旋转和沿旋转半径方向来回移动，以避免抛光织物局部磨损过快，在抛光过程中要不断添加粉末悬浮液，抛光织物保持一定的湿度。抛光时间应该去除划痕比所需时间较长，因为同时拆下变形层。在粗糙打磨光滑，但黯淡无光，显微镜下穿制服，是精细打磨。精细抛光转盘速度可适当提高，抛光时间去除损伤层粗抛光是合适的。经过精细研磨抛光光亮如镜，看不抓在明场显微镜的条件，但相反的照明条件下仍然看到标志。
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