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抛光分为两个阶段进行。粗抛目的是去除磨光损伤层,这一阶段应具有大的抛光速率,石材连续磨机,粗抛形成的表层损伤是次要的考虑,不过也应当尽可能小;其次是精抛(或称终抛),其目的是去除粗抛产生的表层损伤,使抛光损伤减到小。抛光机抛光时,试样磨面与抛光盘应平行并均匀地轻压在抛光盘上,注意防止试样飞出和因压力太大而产生新磨痕。同时还应使试样自转并沿转盘半径方向来回移动,成都连续磨机,以避免抛光织物局部磨损太快在抛光过程中要不断添加微粉悬浮液,使抛光织物保持一定湿度。


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