抛光分为两个阶段进行。粗抛目的是去除磨光损伤层，石英石抛光机，这一阶段应具有大的抛光速率，粗抛形成的表层损伤是次要的考虑，不过也应当尽可能小；其次是精抛（或称终抛），其目的是去除粗抛产生的表层损伤，连续磨机多少钱一台，使抛光损伤减到小。抛光机抛光时，成都连续磨机，试样磨面与抛光盘应平行并均匀地轻压在抛光盘上，注意防止试样飞出和因压力太大而产生新磨痕。同时还应使试样自转并沿转盘半径方向来回移动，大理石连续磨机厂家，以避免抛光织物局部磨损太快在抛光过程中要不断添加微粉悬浮液，使抛光织物保持一定湿度。
大理石磨块抛光是石材晶面处理的前奏或石材加工中必要的一道工艺流程。其主要原理是利用由无机酸、金属氧化物等物质合成的压制磨块配合机械磨盘的压力、高速磨削力、摩擦热能，水的作用在比较光滑的大理石表面进行物理、化学化合作用，从而形成新的光亮晶体层。此晶体层具有超亮的、清晰的光度，光度可达90-100度。此晶体层是石材表层（1-2mm厚）的改性化合晶体层。
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