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抛光分为两个阶段进行。粗抛目的是去除磨光损伤层,这一阶段应具有大的抛光速率,粗抛形成的表层损伤是次要的考虑,不过也应当尽可能小;其次是精抛(或称终抛),其目的是去除粗抛产生的表层损伤,使抛光损伤减到小。抛光机抛光时,试样磨面与抛光盘应平行并均匀地轻压在抛光盘上,注意防止试样飞出和因压力太大而产生新磨痕。同时还应使试样自转并沿转盘半径方向来回移动,以避免抛光织物局部磨损太快在抛光过程中要不断添加微粉悬浮液,天津连续磨光机,使抛光织物保持一定湿度。


 抛光键是操作获得抛光速率上限,大板自动连续磨机,从而去除损伤层的抛光生产。在同一时间,使抛光损伤层不影响最终观察到的组织,而不会导致错误的组织。前者需要粗磨料的使用,瓷砖连续磨光机,以保证抛光速率大大消除抛光损伤层,但抛光损伤层深度;后者需要在好的材料的使用,使抛光损伤层较浅,但抛光率低。

   抛光的硬度增加增加难磨削不同硬度的影响,但抛光后的表面粗糙度降低。由于增加的硬度,以达到所需的抛光时间相应的低增长的粗糙度。同时,石英石连续磨光机,硬度高,抛光过的相应减少的可能性。



抛光织物通过套圈紧固在抛光盘上,电动机通过底座上的开关接通电源起动后,便可用手对试样施加压力在转动的抛光盘上进行抛光。抛光过程中加入的抛光液可通过固定在底座上的塑料盘中的排水管流入置于抛光机旁的方盘内。抛光罩及盖可防止灰土及其他杂物在机器不使用时落在抛光织物上而影响使用效果。抛光机由底座、抛盘、抛光织物、抛光罩及盖等基本元件组成。电动机固定在底座上,固定抛光盘用的锥套通过螺钉与电动机轴相连。


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